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Micron, memoria DRAM il 40% più densa (e meno costosa) con il processo produttivo 1-alpha

Micron ha annunciato di aver avviato la consegna in volumi di memoria DRAM realizzata con processo produttivo 1α (1-alpha). Questo traguardo segue un 2020 tecnologicamente molto interessante per Micron, che ha confezionato la memoria GDDR6X delle schede GeForce RTX 3000 di Nvidia e iniziato le consegne di memoria 3D NAND a 176 layer.

“Il processo 1α conferma l’eccellenza di Micron nel campo della DRAM ed è un risultato diretto dell’impegno assoluto nella tecnologia e nel design più all’avanguardia”, ha dichiarato Scott DeBoer, vicepresidente esecutivo per tecnologia e prodotti di Micron. “Con un
miglioramento del 40% nella densità di memoria rispetto al precedente processo 1z
, questo miglioramento creerà un fondamento solido per i prodotti futuri e l’innovazione della memoria”.

Micron ha intenzione di produrre sempre più DRAM con il nuovo processo produttivo nel corso dell’anno, raggiungendo diversi settori di mercato, non solo il mondo dei PC. Ad esempio, grazie a una riduzione del consumo energetico del 15%, la nuova memoria DRAM finirà a bordo degli smartphone. Gli impianti dell’azienda a Taiwan (Taoyuan e Taichung) hanno già iniziato a produrre memoria DDR4, sia per i clienti che la divisione consumer Crucial, ed è stata avviata la fase di sampling di chip
LPDDR4
.

Il processo 1α supporta densità di 8 e 16 Gbit, e secondo l’azienda il miglioramento della densità porterà a una corrispettiva riduzione del prezzo. Il progresso del 40% indicato da Micron in termini di densità non è figlio solo del migliorato processo produttivo, ma anche di una serie di accorgimenti che riguardano il progetto della memoria stessa. Secondo una stima dell’azienda, queste modifiche “pesano” per un 10%.

Per quanto concerne il futuro, Micron ha dichiarato che nell’immediato non intende produrre con litografia EUV (ultravioletto estremo), sia per questioni tecniche che di costi, ma sta ovviamente accarezzando l’idea, come mostra la slide qui sopra, con una possibile adozione con il processo 1-delta atteso tra alcuni anni. “Valutiamo costantemente la litografia EUV e crediamo che nei prossimi tre anni EUV farà i progressi necessari per competere su costi e prestazioni con le avanzate tecnologie usate nella litografia a immersione. Introdurremo EUV quando soddisferà i nostri requisiti”, ha fatto sapere l’azienda senza far trasparire preoccupazione per

il “vantaggio” di Samsung a tale riguardo
.